Mischa Brendel
Opnieuw hebben Nederlandse namen een plaats weten te bemachtigen op de nominatielijst van de European Inventor Award van het Europees Octrooibureau (EPO)
Ingenieur Erik Loopstra en de Nederlands-Russische natuurkundige Vadim Banine zijn genomineerd in de categorie ‘Industrie’ voor hun rol in de ontwikkeling van microchipfabricage en specifiek EUVL: extreme ultraviolet lithography. EUVL ‘schetst’ met lasers op nanoschaal structuren in siliciumwafers voor de productie van de volgende generatie microchips. Banine en Loopstra werken al tientallen jaren bij ASML aan de ontwikkeling van deze technologie, die vorig jaar op de markt kwam. EUVL belooft nog kleinere microchips. De ASML-onderzoekers en hun teams creëerden dit EUVL door met een krachtige laser op minuscule druppels tin te schieten. Hierdoor ontstond een plasma met een temperatuur rond de 500.000 °C dat EUVL uitstraalt met een golflengte van 13,5 nm. Met licht van deze golflengte kunnen in een vacuümomgeving kleinere chips worden geëtst dan de huidige technologieën, die werken met UV-licht op een golflengte van 193 nm, al is dit met wat handigheden terug te brengen tot een golflengte van circa 45 nm.
Loopstra studeerde werktuigbouwkunde aan de TU Delft en is nu ruim 25 jaar systeemengineer bij ASML. Banine deed twee jaar postdoctoraal onderzoek aan de TU/e en promoveerde hier ook. In 1996 ging hij aan de slag bij ASML.
De European Inventor Award telt vijf categorieën met in totaal vijftien finalisten. Op 7 juni worden de winnaars in Parijs bekendgemaakt.
