Mischa Brendel
ASML wil samen met FOM, NWO, de Universiteit van Amsterdam en de Vrije Universiteit het Instituut voor Nanolithografie (INL) oprichten, zo maakte de chipmachinefabrikant afgelopen maandag bekend.
Dit INL richt zich op zowel fundamenteel als toegepast onderzoek, waarbij het in de eerste plaats de pijlen richt op de verdere ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV) lithografie, de meest recente stap in de productie van almaar kleinere chips.
De verwachting is dat diverse partijen voor een periode van tien jaar circa 100 miljoen euro in het INL zullen steken. Het instituut moet dit jaar nog het levenslicht zien.
