Samir Saberi
Onderzoekers van het Amerikaanse onderzoeksinstituut NIST hebben ontdekt dat met elektrochemische depositie in een waterige oplossing razendsnel metaallaagjes zijn te maken van slechts één atoom dik.
Zo lukte het om één platinum atoomlaag per seconde aan te brengen.
Bij de methode zorgt een sterk potentiaalverschil voor een snelle depositie van een metaallaag én de vorming van een waterstoflaag. Dit is cruciaal voor het aanbrengen van metaallagen van één atoom dik: de waterstoflaag bovenop de metaallaag blokkeert verdere depositie. Voor platinum bleek dit bij -0,8 V te kunnen. Een potentiaal van +0,4 V zorgt voor de afbraak van de waterstoflaag. Door het potentiaalverschil te wisselen, is het proces tot het gewenste aantal atoomlagen het herhalen.
