Achtergrond

Nieuwe generatie ASML-waferscanners met verbeterd optisch systeem

Afbeelding1-1

ASML levert binnenkort het eerste exemplaar van een nieuwe generatie waferscanners. Met een verbeterd optisch systeem produceren ze kleinere structuren dan de huidige machines.

ASML levert binnenkort de eerste machine met een verbeterd optisch systeem: met – in vakkringen – een ‘numerical aperture´ (NA) van 0,55. Huidige machines hebben een NA van 0,33.

Dit artikel is exclusief voor abonnees

Wachtwoord vergeten?

Heb je geen abonnement? Abonneer
Onderwerp: Innovatie

Meer relevante berichten