ASML levert binnenkort het eerste exemplaar van een nieuwe generatie waferscanners. Met een verbeterd optisch systeem produceren ze kleinere structuren dan de huidige machines.
ASML levert binnenkort de eerste machine met een verbeterd optisch systeem: met – in vakkringen – een ‘numerical aperture´ (NA) van 0,55. Huidige machines hebben een NA van 0,33.
NA is een maat voor de openingshoek van het optische systeem; dit is vergelijkbaar met het diafragma van een fotocamera, alleen werkt het niet traploos maar in ‘sprongen’. Hoe hoger de NA des te kleiner de af te beelden structuren (zie verdieping ‘Rayleigh-criterium’ onderaan dit artikel).
De kleinste af te beelden structuren met de nieuwe machine worden in theorie 8 nm. De huidige generatie euv-scanners (euv: extreem ultraviolet licht) produceert in theorie kleinste structuren van 10 nanometer (nm), maar in de praktijk wordt dat 20 à 24 nm.
In de pers wordt altijd gemeld dat de huidige machines van ASML kleinste structuren printen van 3 nm. Een woordvoerder van ASML kwalificeert dat echter als ‘marketing van chipproducenten’ (voor uitleg zie kader ‘kleinste structuren’).
