Henk Klomp
Ingenieurs van de universiteit van Osaka in Japan hebben een laser gebouwd die met bestaande etstechnieken uit een siliciumwafer kan worden gemaakt.
Het apparaatje heeft slechts een microwatt vermogen nodig om te werken. De trilholte van het fotonisch kristal is maar tien micrometer groot. Dat is de kleinste laser ooit gemaakt van silicium.
De Japanners demonstreerden hun apparaat in Nature van 27 juni. Volgens hen kan de laser een rol spelen in de integratie van fotonische circuits op chip.
