Nieuws
0

Nederlands team wint EIA

Marianne Pinckaers

De Nederlandse uitvinders Erik Loopstra en Vadim Banine ontvingen vandaag in Parijs de European Inventor Award (EIA) publieksprijs voor een techniek om nog kleinere en krachtigere microchips te produceren. Het duo kreeg van de vijftien teams de meeste online stemmen.

Microchips worden gecreëerd door met laserlicht patronen te etsen in siliciumwafers. De gebruikelijke productietechnieken met ultraviolet kunnen details etsen tot circa 45 nm. Loopstra en Banine ontwikkelden het EUVL-productiesysteem, waarmee met extreem-ultraviolet licht door de korte golflengte geëtst kan worden met details tot circa 5 nm. ‘Met deze technologie hebben we de grenzen van de conventionele fysica zo goed als bereikt’, legt Banine uit.

Het Europees Octrooibureau reikt jaarlijks zes prijzen uit aan uitvinders, waaronder een publieksprijs en een prijs voor de winnaars van de vijf categorieën: industrie, onderzoek, niet-EOB-landen, mkb’s en levenslange prestaties.

Onderwerp:
ICTIndustriële automatisering

Meer relevante berichten

Je moet inloggen om een reactie te kunnen plaatsen.

Nieuwsbrief

Relevante berichten
×